スクロール   
 

 

 

会社名/Company name                  :株式会社ECP/ECP CORPORATION

設立年月日/Date of establishment   :1977年4月1日/April 1, 1977

資本金/Capital                         :1.000万円/10 million yen

代表取締役/PREDIDENT            :佐々木 康仁/Yasuhito Sasaki

 

〒252-0185 神奈川県相模原市緑区日連1512番地

1512 Hizure, Midori-ku, Sagamihara City, Kanagawa Prefecture

TEL:042-687-3846(代表)

FAX:042-687-3778

 

 

 

ECP社歴図

 

設備/Equipment

class 3 clean room x 2 rooms

0.3μ-ISO クラス3 クリーンルーム ×2 部屋 0.3μ-ISO class 3 clean room x 2 rooms

Ultrapure  water supply equipmen

超純水供給装置

Ultrapure water supply equipment

30L/min(17~18MΩ)2台

production  management system

生産管理システム/production management system

TECHS-S

 

 

弊社の特徴

 当社は、半導体シリコンウェーハの洗浄装置を最も得意とする装置メーカーです。業界大手装置メーカーと対比して非常に少ない社員数ですが少数精鋭で運営をしており、製造設備は上位メ-カに遜色ない仕様です。装置の大量生産は苦手ですが、お客様の仕様による特殊洗浄装置の設計製造を基本とした「もの作り」会社です。

 

Our features

We are an equipment manufacturer that specializes in cleaning equipment for semiconductor silicon wafers. Although the number of employees is very small compared to the major equipment manufacturers in the industry, it is operated by a small number of elite, and the specifications of the manufacturing equipment are comparable to those of higher-ranking manufacturers. Although we are not good at mass production of equipment, we are a "manufacturing" company based on the design and manufacture of special cleaning equipment according to customer specifications.

 

 

製品/Product

300mm CLEANER-Type1

300mm CLEANER-Type1

300mm CLEANER-Type2

300mm CLEANER-Type2

6”/8” Multi-CLEANER

6”/8” Multi-CLEANER

4”/5”/6”/8” Multi-CLEANER

4”/5”/6”/8” Multi-CLEANER


INQUIRY

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